题目：大规模铌酸锂光子集成与应用器件

报告人：程亚

邀请人：阮智超

时间：2023年10月17日（周二）15:30

地点：紫金港校区海纳苑8幢215报告厅

摘要：大规模集成电路与光刻技术是人类科技发展史上的巅峰之作，并借助摩尔定律持续驱动研发与产业高速增长。光子集成技术起步于1969年，却至今无法实现光子芯片集成规模的摩尔指数增长，其背后有深刻的物理、材料与制造技术的限制原因。新近，铌酸锂单晶薄膜的出现与无限视野高精度光刻技术的发展，能够以低成本制造的方式实现超低损耗、超小功耗、超大规模、超高带宽的光子集成器件与系统。我们在此报道高品质无源器件，包括：片上波导延时线、阵列波导光栅、耦合分光器、高品质光学微腔；有源器件如：低功耗人工智能光芯片、高速光调制器、窄线宽可调激光器、片上光放大器；有源无源光子集成技术，以及光子芯片到光纤网络间的接口技术。铌酸锂薄膜光子材料与高速大视野激光光刻技术的突破，提供了实现未来光子芯片集成规模摩尔指数增长的可行途径。

个人简介：

程亚，1993年复旦大学获学士学位，1998年上海光机所获博士学位。现为华东师范大学教授，上海光机所研究员。获国家高层次人才计划项目支持，主持科技部重点研发计划项目。研究兴趣为超快激光与物质相互作用，及超快激光微纳结构制备。针对激光直写光刻应用，发明了“slit beam shaping” 和 “spatiotemporal focusing”两项被国际同行广泛借鉴采用的光场整形技术；保持铌酸锂光波导最低损耗、铌酸锂光子微腔最高品质因子两项世界纪录。发表论文被引万余次，H因子约60。出版中文专著1本，独著与合编著英文专著共5本，国际会议大会报告、邀请报告140余次，美国光学学会与英国物理学会会士。